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第一八二八章 大家都在等待（第2页）

无可非议!

尼康公司CEO森佳照明也明白，一旦BSEC、GCA和ASML的45nm制程的浸润式光刻机问世，DSP-100干式光刻机就没有竞争优势了。

“恭喜孙先生，请问贵公司的3360i定价多少?”

阿密特向阿尔特曼打出OK的手势，两人原以为BSEC会晚几个月研发成功45nm制程浸没式光刻机，也无所谓，先开工基建，明年再安装设备。

在GCA和BSEC之间，阿密特和阿尔特曼会选择GCA光刻机;在BSEC和Nikon之间，他们会选择BSEC光刻机，这里面有公司利益考量，还有国家利益在里面;在国家利益和公司利益之间选择，他们会选择公司利益，实现股

东利益最大化。

美国半导体行业都知道，日本为了打败美国，重新成为全球半导体产业的老大，由日本通商产业省牵头，政府出钱，日本各大科研院所和半导体公司联合，在国家层面，制定了日本半导体产业长中短期发展规划，先后成立了

半导体前沿技术联盟SELETE、日本超先进电子技术协会ASET、下一代半导体曝光工艺基础技术开发MIRAI和极紫外光刻系统开发协会EUVA，举国之力，从1998年就启动了EUV技术研究项目，希望赶在美国G

CAEUV公司之前，实现EUV光刻技术的商业化。

在EUVLLC联盟通过两年的研究，验证EUV光刻机的技术可行性后，2002年1月，由GCA出资5亿美元，成立一家GCAEUV光刻机股份有限责任公司，邀请Intel、AMD、IBM、HP、TI、摩托罗拉、蔡司公司、Cymer、台

积电和三星等二十多家公司参加，筹资50亿美元，共同研发EUV技术。

EUVLLC联盟中除了GCA、Intel和牵头的美国能源部以外，还有摩托罗拉、AMD、IBM，以及能源部下属三大国家实验室:劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。

美国半导体行业都不愿意看到由Nikon和Canon主导的EUV研究走在GCAEUV的前面。

“阿密特先生，3360i的研发成本要高一些，初步定价2000万美元，阿密特先生和阿尔特曼先生是老朋友，我做主打八五折!”

光刻机是个高投入高收益的行业，谁的技术领先，谁就能拿到高额利润。

“多谢孙先生!”

阿密特和阿尔特曼就不需要考虑DSP-100干式光刻机了，打道回府，向董事长汇报。

“原田弘树先生，多谢热情款待，我们回去向公司报告，最后由公司决定;原田弘树先生再见!”

第二天，阿密特向负责接待的常务副总裁原田弘树告辞。

“阿密特先生再见!”

原田弘树一脸郁闷，阿尔特曼一行人刚离开不久;昨天下午，PGCA

和TTFAB的应邀贵宾一起离开了，这次招待会到如今还没有拿到一台DSP-100干式光刻机的订单和意向，似乎大家都在等待。

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